EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
ABICSシリーズ E320
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次世代EUVマスクブランクス上の微小な位相欠陥の高感度検査と欠陥座標の高精度測定
関連ニュース
特長
- Actinic inspection （λ=13.5nmのEUV光源を採用)
- 反射多層膜（Mo/Si）内部の転写性位相欠陥を高感度に検出
- 40x暗視野光学系による高感度かつ高速検査が可能
- 1500x高倍率レビューによる欠陥座標の高精度測定が可能
- 明視野/暗視野レビューによる欠陥解析（欠陥分類や疑似欠陥判定など）
用途
- 次世代EUVマスクブランクス（Mo/Si多層膜）の位相欠陥の検査
- EUVマスクブランクスの位相欠陥のレビュー
- 欠陥Mitigationのための高精度な位相欠陥座標の出力
