アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置
ACTIS A150
世界初 EUVパターンマスク欠陥検査装置
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特長
- EUV光源（波長13.5nm）により、従来のDUV光源に比べ、欠陥検出感度を大幅に向上
- ウェハ露光機と同波長の光源による検査（アクティニック検査）により、露光時に転写する欠陥を高い感度で検出
- ペリクル付きEUVマスクの検査が可能
用途
- EUVマスク製造工程における検査
- ウェハファブにおけるEUVマスクの受入検査および定期的な品質確認検査
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