マスク検査装置
MATRICS X9ULTRAシリーズ
テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム
関連ニュース
特長
- テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム
- ハイパワー193nmレーザーおよび高NA対物レンズの搭載により、微小異物検出性能を向上
用途
- ウェハファブにおけるペリクル非装着EUVマスクの品質確認検査
- EUVマスクの製造工程における、微小異物検査
この製品を見た人はこちらも見ています