マスク検査装置
MATRICS X9ULTRAシリーズ
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テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム
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特長
- テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム
- ハイパワー193nmレーザーおよび高NA対物レンズの搭載により、微小異物検出性能を向上
用途
- ウェハファブにおけるペリクル非装着EUVマスクの品質確認検査
- EUVマスクの製造工程における、微小異物検査
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