マスクブランクス、フォトマスクおよびウェハの検査・計測装置

EUVリソグラフィの実用化や新しい材料や構造の導入によって微細化が進む半導体製造プロセスにおいて、当社の検査・計測装置はなくてはならない存在となっています。当社の主力製品であるフォトマスク関連の欠陥検査装置に関しては、EUVマスクブランクス欠陥検査装置が業界標準の検査装置として採用されているほか、マスク欠陥検査装置も最先端のリソグラフィにおいて高いシェアを獲得しています。ウェハ関連の検査・計測装置についても、ウェハエッジ検査、膜厚全面検査、Si厚さ測定、SiCウェハ欠陥検査などの多様なソリューションを取り揃えてお客さまのニーズにお応えしております。

FPDフォトマスクの欠陥検査装置

高精細FPDフォトマスクの検査装置として、業界標準の地位を確立しています。

高機能と多機能性を備えたハイブリッドレーザーマイクロスコープ

半導体材料、透明膜、コーティング材料、無機/有機材料、各種バイオ系試料、金属部品、プラスチック加工部品など、幅広い産業分野において、研究開発、品質管理に活用されています。

レーザーテックの画期的な製品を生み出す核となる技術が、光応用技術です。

光を用いた検査・計測の可能性を徹底して追究するなかで、光源にレーザーを使用して高解像度化を図った「レーザー顕微鏡」の開発に成功し、これを出発点に、全焦点で高精細な3次元画像が得られる「共焦点光学系技術」を確立しました。さらに、半導体リソグラフィの微細化に伴う光源の短波長化に適応した「DUV/EUV光学系技術」、光の位相の僅かなずれを正確に測定する「光干渉計技術」を独自に開発してきました。

レーザーテックはこれら3つの光応用技術をコア技術として、周辺技術との組み合わせにより各アプリケーションに最適なソリューションを提供することで、多種多様なお客さまのニーズにお応えしています。