レーザーテックは、長年にわたりEUV光源を用いた検査技術の開発を行ってまいりました。

現在、当社で販売しているABICSシリーズ「E120」は、位相欠陥に対する高い検出感度と欠陥座標精度により出荷検査や欠陥Mitigation技術に活用され、お客さまからの高い評価と信頼を得ております。

一方、半導体デバイスのさらなる微細化に向けたHigh NA EUVリソグラフィ実用化のための技術検討が進展しており、EUVマスクブランクスにおいては、より微小な位相欠陥の管理が必要となってまいります。

このたび製品化したABICSシリーズ「E320」は、新たに設計した高倍率シュバルツシルト光学系の採用と照明光学系の最適化によって、High NA EUVリソグラフィ世代に必要な欠陥検出感度と欠陥座標精度を実現いたしました。

レーザーテックは、今後もお客さまのご要望にお応えする独自のソリューション開発によって、品質改善、生産性向上および業界の発展に貢献してまいります。