EUVマスク関連検査装置について

当社は、EUVリソグラフィに対応した高性能な検査装置の開発に早くから取り組み、
EUVマスク欠陥検査に関する基盤技術の確立に努めてまいりました。
6製品をラインアップして、お客さまのご要望に応えています。

最先端半導体デバイスとEUV

半導体デバイスはさらなる小型化・高性能化が求められ、より細かく複雑な回路が必要とされています。そのため大手デバイスメーカーは、従来の手法に比べより微細なパターンを形成できるEUVリソグラフィを用いた半導体の量産を、2019年より開始しました。EUVリソグラフィは、5G（第5世代移動通信システム）やAI（人工知能）など最先端の半導体製造に不可欠な技術で、製造プロセスへの導入がますます拡大すると見込まれています。

4分野の拡大により、これからより一層需要が増える半導体デバイス・計算や画像処理を行う「ロジックデバイス」・光を感知し画像をつくる「イメージセンサ」・データを記憶する「メモリー」・電力を最適に制御・変換する「パワーデバイス」

半導体デバイスの小型化・高性能化に伴い、より優れた検査装置が必要となります。

EUVリソグラフィとは

EUV（Extreme Ultraviolet）リソグラフィ^※とは、極端紫外線といわれる非常に短い波長（13.5nm）の光を用いるリソグラフィ技術で、従来のArFエキシマレーザー光（波長193nm）を用いたリソグラフィに比べ、より微細なパターンを形成できます。

※リソグラフィ：ウェハ上にフォトレジストと呼ばれる光に反応する材料を塗布し、露光装置で光を照射し、薬品に光が当たった部分を除去することでパターン（例えば線のような形状）を形成する技術。パターンが描かれている複数のフォトマスクが露光装置で使用され、半導体の回路が形成される。

レーザーテックのEUV関連装置ラインアップ

レーザーテックは、光応用技術を用いた最先端の検査・計測システムでお客さまの課題を解決し、世の中に貢献してまいります。

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