EUV光（波長：13.5nm）を適用したEUVパターンマスク検査装置は、2019年当社が世界ではじめて開発・販売した製品です。従来よりも高感度な検査とEUVパターンマスクに特有の欠陥を検出可能にし、EUVマスクリソグラフィの発展に大きく貢献しています。

EUV光（波長：13.5nm）を用いたEUV（極端紫外線）マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置は、2017年当社が世界ではじめて開発・販売した製品です。
半導体性能向上に不可欠な回路微細化を実現するEUV露光技術。その実用化に先駆けて開発した量産対応の本装置は、回路原板（フォトマスク）の材料であるマスクブランクス内部にある微小な欠陥を検出します。EUVマスクブランクスの欠陥管理や歩留まり向上に大きく貢献していきます。

2012年に当社が世界ではじめて開発・発売した装置です。電気自動車などに搭載されるリチウムイオン電池の性能評価は、従来、充放電カーブによる計測が一般的な方法で、密閉状態にある電池内部での電気化学反応の状態変化を可視化することは困難でした。
本製品は、充放電中のリチウムイオン電池の電極表面のみならず、断面における電気化学反応の進行状況まで、高精細のリアルタイム・カラー動画による観察を実現しました。
研究開発、材料特性の改善や品質向上に活用され、リチウムイオン電池の開発加速に貢献しています。

位相シフト量測定装置は、1993年に当社が世界ではじめて開発・発売した装置です。翌年1994年に発売されたMPM100は、当時の露光波長の主流である365nm（i線）と同じ波長で位相シフト量を測定できる装置として市場から高く評価され、短期間のうちに業界の標準機となりました。

走査型カラーレーザー顕微鏡は、1985年に当社が世界ではじめて開発・発売した製品です。本製品の開発により、当社は半導体以外の新たな事業分野の開拓に乗り出しました。以来、当社にとって顕微鏡は主要事業の一つであると同時に、さまざまな分野における潜在ニーズや新たなビジネスチャンスを見いだすアンテナとして重要な役割を担っています。

LSIフォトマスク欠陥検査装置は、1976年に当社が世界ではじめて開発・発売した製品です。
この装置の開発は、半導体工場で多くの社員がそれまで目視で検査していた工程を自動化し、検査速度と欠陥検出感度の飛躍的な向上で、当社の名を世界に印象づけました。
フォトマスク欠陥検査装置は、その後全面的に一新されてMATRICSシリーズとして生まれ変わり、最先端半導体工場で歩留まり向上に貢献しています。

当社が半導体業界に初めて参入した製品です。フォトマスクブランクスのピンホールを検査する装置で、自動焦点技術を確立しました。