説明
極端紫外線。光源の波長 13.5nm
世界初 EUVパターンマスク欠陥検査装置
EUVマスクブランクス上の転写性位相欠陥の検出および欠陥管理
テクノロジーノード7nm/5nm/3nmのペリクル非装着EUVマスクおよびフォトマスクに対応可能なマスク検査装置
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