説明

位相シフトマスク（Alternating Phase Shift Mask）の一種。フォトマスクに光の位相差を発生させる透明膜を付けたり、フォトマスクのガラスをエッチングして位相差を発生させるタイプの位相シフトマスク。遮光膜にクロムを用い、位相シフター（位相差を発生させる部分）はガラスをエッチングするタイプが一般的に使用されている。名称の由来は発明者の名前（Marc David Levenson氏）であるが、同時期に日本人の渋谷氏も発明しており、渋谷レベンソンマスクと呼ぶ場合もある