フォトレジスト

【読み方】
ふぉとれじすと
【英語名】
Photoresist

説明

光により化学反応(化学変化)を起こす材料。光が照射された後、現像によって光が照射された部分のみ残ったり、または逆に解けたりする。ウェハ上に薄く塗られ、エッチング、イオン注入のマスキング(保護)に使用される(加工だけではない)

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