成長性異物（ヘイズ）

【読み方】: せいちょうせいいぶつ

【英語名】: Haze

説明

フォトマスク上の回路パターンをウェハに転写するときに使用されるリソグラフィ光源には、半導体デバイスの微細化に伴い、波長の短いKrFまたはArFレーザーが多く用いられている。特に先端デバイスで使われるArFレーザーの照射光エネルギーは高く、フォトマスク表面周辺のガス状物質の化学反応を誘発し、フォトマスク上にヘイズ（Haze）と呼ばれる固体状の成長性異物を生成する

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