現在販売中のフォトマスク検査装置、MATRICS X810EXシリーズならびに X8ULTRAシリーズは、その優れた検査性能、低ランニングコストおよび高い信頼性により、全世界のウェハファブや、マスクショップでご活用いただいて高評価を得ております。このたび、レーザーテックは、ペリクル非装着EUVマスク上の微小異物検査性能を、従来装置よりもさらに向上したX9ULTRAシリーズを製品化いたしました。

半導体デバイス市場では5GやHPC、高性能サーバー向けをはじめとする需要増大が続いており、半導体デバイスの製造工程ではEUVリソグラフィの利用が拡大しています。レーザーテックは、2018年にEUVマスク上の微小異物検出を目的として、X8ULTRAシリーズを製品化し、ペリクル非装着EUVマスクの検査装置としてたいへんご好評をいただいてまいりました。今回発表するX9ULTRAシリーズでは、新たに自社開発したハイパワー193nmレーザー光源および高NA対物レンズを搭載する事により、従来機よりもさらに微小異物検出性能を向上しております。

レーザーテックは、今後もEUVマスク検査装置の継続的な性能向上を図り、業界の発展に貢献してまいります。