半導体デバイスの高機能化、動作速度の向上、消費電力の低減を追求するためにその製造プロセスでは微細化が継続的に求められています。EUVリソグラフィを用いた半導体製造は既に量産に適用されており、当社が販売するEUVパターンマスク検査装置のACTIS A150はその優れた検査性能から市場で高い評価を得ております。

このたびレーザーテックは、さらなる微細化プロセスとHigh NA EUVリソグラフィに対応するACTISの次世代機、A300シリーズを製品化しました。

A300シリーズでは新たに設計された光学系や高輝度光源「URASHIMA」を採用し、従来のA150シリーズと比較しても非常に高い欠陥検出性能を実現しています。

High NAリソグラフィではXY方向の投影倍率が異なるアナモルフィック光学系が採用され、それぞれの方向で異なる解像度が求められます。A300シリーズは現行のNAリソグラフィ向けとHigh NAリソグラフィ向け、両方のEUVマスク検査に対応しています。

レーザーテックは今後も最先端半導体メーカーのご要望にお応えし、独自のソリューション開発、品質改善、生産性向上と業界の発展に貢献してまいります。