このたび、2023年10月1日から5日に米国カリフォルニア州モントレーで開催されました、フォトマスク技術およびEUVリソグラフィ―に関する国際学会「SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2023」において、以下2つの賞を受賞しました。

BACUS Prize
「The enablement of EUV mask inspection using 193 nm optical inspection system」
Haruhiko Kusunose, Director, Chariman and Executive Officer, Lasertec Corp.(Japan)
本賞は、フォトマスク業界への卓越した貢献を表彰する賞です。 193nmレーザー光源を用いたMATRICS X9ULTRAシリーズによるEUVマスク検査への貢献が評価され、当社取締役会長の楠瀬治彦が受賞しました。なお、BACUS Prizeの受賞は日本人として3例目で、当社では2018年のアクティニックEUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置での受賞以来、2回目となります。

Best Paper Presentation Award
「Actinic pattern mask inspection for high-NA EUV lithography」
Author(s): Toshiyuki Todoroki, Kou Gondaira, Lasertec Corp.(Japan); Arosha Goonesekera, Lasertec USA Inc.(United States); Hiroki Miyai, Lasertec Corp.(Japan)
本賞は、本学会における優れたプレゼンテーションの上位3つを選出するものです。 次世代High NA対応のアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置に関する発表で当社技術五部スタッフエンジニアの轟寿幸が1位を受賞しました。

当社は今後もお客さまのニーズに応えて独自製品を開発し、半導体業界の発展に貢献してまいります。