レーザーテックは、EUVおよびDUVフォトマスクのエッジ部における高感度検査、レビュー、計測を可能とするマスクエッジ検査装置 「MZ100」を製品化しました。

半導体デバイス市場では5GやHPC向けをはじめとする需要増大が続いており、半導体デバイス製造工程では継続的に微細化による性能向上が求められております。そのため、半導体デバイスの製造工程においてもより高品質のマスクブランクス、フォトマスクの製造が要求されます。

「MZ100」では従来管理のなされていなかったマスクエッジ部のサイド面、ベベル部の欠陥検査や製造プロセス変動の管理を可能とすることで、フォトマスク製造プロセスの歩留まり向上や高品質化に寄与することができます。

本装置では当社のコア技術であるコンフォーカル光学系、先端フォトマスク検査装置で培った検査、マスクハンドリング技術、ウェハエッジ検査装置EZ300の光学系機構を統合することでフォトマスクエッジ部の検査を実現することを可能としました。

当社では今後も、先端半導体メーカーのご要望にお応えし、フォトマスクの製造プロセスの品質改善、歩留まり向上へ向けて貢献してまいります。