当社は、長年にわたりフォトマスクおよびマスクブランクス検査の技術開発を行ってまいりました。そこで開発した高い感度を持つ検査装置はマスクブランクスの出荷検査やプロセス管理に活用され、高い評価と信頼を得ております。
一方、デバイスパターンの微細化に伴い、次世代露光技術であるEUVリソグラフィの実用化の時期が迫っており、EUVマスクブランクスの品質管理を行える検査装置の整備が急務となっています。
当社は2011年からの5年間、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）による支援の下、株式会社EUVL基盤開発センター（EIDEC）※1との共同研究を進め、EUVマスクブランクス欠陥検査装置（Actinic Blank Inspection(ABI) ※2）の技術開発を手掛けてまいりました。
この度、当社は共同研究で開発したABI装置の技術を適用し、EUV量産に対応した新たなEUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICS「E120」を製品化いたします。
同装置はEUV光を用いた検査/レビュー方式を採用しているため、転写性欠陥の選択的な検出とEUV光による欠陥解析を行うことが可能です。これらの性能はEUVマスクブランクスの欠陥管理や歩留まり向上に大きく貢献します。