このたび半導体産業新聞が主催する「第19回　半導体・オブ・ザ・イヤー」半導体製造装置部門において、当社の「ＥＵＶマスク裏面検査/クリーニング装置　ＢＡＳＩＣシリーズ」がグランプリを受賞しました。
本賞は最先端のＩＴ機器・産業を支える半導体関連製品を表彰するもので、2012年4月～2013年3月の間に発表された製品・技術を対象に、「次世代」をキーワードに開発の斬新性や量産体制の構築、社会に与えたインパクト、将来性などを基準に選定されました。
半導体のさらなる微細化に向けてEUVリソグラフィーの開発が業界をあげて進められています。当社の「ＢＡＳＩＣシリーズ」は、その中でも極めて難易度の高いEUV用マスクの検査装置として高い評価をいただき受賞にいたりました。

■ＢＡＳＩＣシリーズとは
EUVリソグラフィ開発において、マスクは光源やレジストと並んで3大問題とされています。 EUV用マスクは従来マスクとは異なり、反射型マスクで、マスクの保持には静電チャックが用いられます。EUV用マスクの裏面に異物が付着した状態で、露光装置の静電チャックに吸着すると、マスク基板が歪み、露光パターンの位置にずれが生じてしまいます。安定露光を行うためには、EUV用マスク裏面のクリーン化や、静電チャックの異物管理が不可欠となります。 本BASICシリーズは、マスク裏面の異物の検査機能、異物の高さ測定機能、異物の除去機能を1台に集約した装置です。

■その他ＥＵＶ関連製品
・ＥＵＶマスクブランクス検査装置 Actinic Blank Inspection Tool

当社はこれからもＥＵＶリソグラフィ開発の前進に貢献してまいります。