レーザーテック株式会社は、1976年に世界で初めて、半導体用マスク欠陥検査装置を開発・販売し、マスク検査分野で長い歴史と経験を持つ会社です。現在販売中のマスク欠陥検査装置MATRICS、マスクブランクス欠陥検査装置MAGICSシリーズは、その優れた欠陥検出性能や低ランニングコストにより高い評価をいただき、今日世界中のウェハファブ、マスクショップ、及びマスクブランクスメーカで活躍しております。

今日、半導体分野では、さらなる微細化に向けた次世代技術として、EUVリソグラフィの研究・開発が加速しています。EUVスキャナーによるパターン露光では従来と異なり、マスクの保持のために静電チャックが必要となります。その際、EUVマスク裏面に異物が付着した状態でスキャナーの静電チャックに吸着すると、マスク基板が歪んで露光パターン位置にずれが生じます。EUV露光の安定稼働にはマスク裏面のクリーン化や静電チャックの異物管理等が求められております。

「BASICシリーズ」は、このようなニーズにお応えする新製品です。特長は（１）EUVマスク裏面異物検出に最適化された光学系による異物検査機能（２）EUV露光に影響を及ぼす異物を特定するためのコンフォーカル光学系による異物高さ測定機能、及び（３）異物をクリーニング（除去）する異物除去機能を有することです。さらに、マスクの搬送システムでは、発塵リスクが無くパターンにダメージを与えないデュアルポッドハンドリング方式を採用しました。

本装置をEUVマスクハンドリング技術開発からEUVマスク裏面の定期的な管理に利用することによって、EUVマスク裏面の安定的なクリーン度の確保が可能となります。ウェハファブ、マスクショップ、ブランクスメーカでのEUVマスク裏面の品質管理にご活用ください。