レーザーテックは、1976年よりフォトマスク欠陥検査装置を開発・販売し、本分野で長い歴史と経験を持つ会社です。現在販売中のMATRICS X700＆X700HiTシリーズは、そのすぐれた欠陥検出性能、低ランニングコストおよび高い可用性により、高い評価をいただき、日本、韓国、台湾、ドイツ、米国および中国など全世界のウェハファブやマスクショップにてご活用いただいております。
このたび、レーザーテックは、このMATRICS X700＆X700HiTシリーズの検査性能を大幅に向上させた新製品「MATRICS X810シリーズ」を製品化しました。対物レンズの高NA化、62.5nmから50nmに精細化した画素サイズ、従来比2倍の高出力213nmレーザー光源および新規設計の高剛性ステージにより、20nmという高い検出感度を実現しました。
フォトマスクおよびEUVマスクは、半導体デバイスの回路パターン原版という性格上、常に高い品質が要求されます。特にArFリソグラフィを用いるウェハファブでは、フォトマスク上のヘイズ(成長性異物)の問題が依然未解決で、半導体のさらなる微細化に伴い、フォトマスクの欠陥検査における検査感度の向上がますます強く求められています。
また、EUVマスクは、パターン面への異物付着を防止するペリクルの装着ができないため、頻繁に異物検査が必要となり、高感度かつ、高速のマスク検査装置が求められています。
レーザーテックのMATRICS X810シリーズは、まさにこのようなご要望にお応えすべく開発した新製品です。最先端ウェハファブにおけるマスク検査やマスクショップでの検査にご活用ください。