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新製品:高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置 CLIOS G821を発表

2012年08月01日

微細化の進む大型マスクを高感度で検査

この度レーザーテックは、スマートフォンやタブレット端末などの高精細液晶ディスプレイ生産用に特化した高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置 CLIOS(クリオス) G821を発表致します。

説明

レーザーテックは、第8世代用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置の業界標準機として既に定評のある51MDを大幅に進化させた高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置CLIOS G821を製品化し、今月より受注を開始いたします。
スマートフォンに代表される高精細ディスプレイや新映像フォーマットの4K2K高解像度テレビへの対応で、液晶用フォトマスクのパターンは微細化が急速に進展し、ハーフトーンマスクやグレートーンマスクの普及と併せて高度化が一層加速しています。
生産現場においてもこのような高度化したフォトマスクの欠陥検査を可能とする、より高い検出感度を持った検査装置の登場が強く求められております。
レーザーテックでは、こうした新たな検査ニーズに対応すべく新開発の光学系、ステージ機構および検出回路で、高感度欠陥検査と高スループットを実現した新製品CLIOS G821を製品化いたしました。

特長

  • 短波長光源および専用設計の対物レンズを含む最新の光学系採用により、画像解像度を大幅に向上し、高い検出感度を実現(最高検出感度0.35μm。当社従来モデル0.75μm)
  • 新システムの開発により、データベース検査の分解能と展開処理能力を大幅に向上し、Die to Die 検査と同等の性能を発揮
  • 独自のアルゴリズムによるデータベースのプロファイルマッチング機能により、最適なデータベース画像を自動生成
  • 新型TDIセンサー、高速化した処理系およびダブルデータベース検査(オプション)等により、検査時間も短縮
  • レビュー専用顕微鏡を装備し、フルカラーでのレビューを実現
  • 装置内でのペリクル貼り付けも可能(オプション)

用途

  • 高精細液晶用大型 フォトマスクの出荷前品質検査
  • 高精細液晶用大型フォトマスクの受入検査および定期的な品質検査
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